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一文读懂特种气体的主要作用

发布时间:2022-04-11      点击次数:369
 
  特种气体主要有电子气体、高纯气体和标准气体三种,广泛应用于电子半导体、化工、医疗、环保装备制造等L域。到目前为止,特种气体中单元纯气体共有260种。下面为您做详细介绍:
 
  1、氮气-N2,纯度要求>99.999%,用作标准气、在线仪表标准气、校正气、零点气、平衡气;用于半导体器件制备工艺中外延、扩散、化学气相淀积、离子注入、等离子干刻、光刻、退火、搭接、烧结等工序;电器、食品包装、化学等工业也要用氮气。
 
  2、氧气-O2,>99.995%,用作标准气在线仪表标准气、校正气、零点气;还可用于医疗气;在半导体器件制备工艺中用于热氧化、扩散、化学气相淀积、等离子干刻等工序;以及用于光导纤维的制备。
 
  3、氩气-Ar,>99.999,用作标准气、零点气、平衡气;用于半导体器件制备工艺中晶体生长、热氧化、外延、扩散、氮化、喷射、等离子干刻、载流、退火、搭接、烧结等工序;特种混合气与工业混合气也使用氢。
 
  4、氢气-H2,>99.999%,用作标准气、零点气、平衡气、校正气、在线仪表标准气;在半导体器件制备工艺中用于晶休生长、热氧化、外延、扩散、多晶硅、钨化、离子注入、载流、烧结等工序;在化学、冶金等工业中也有用。
 
  5、氦气-He,>99.999%,用作标准气、零点气、平衡气、校正气、医疗气;于半导体器件制备工艺中晶体生长、等离子干刻、载流等工序;另外,特种混合气与工业混合气也常用。
 
  6、氯气-Cl2,>99.96%,用作标准气、校正气;用于半导体器件制备工艺中晶体生长、等离子干刻、热氧化等工序;另外,用于水净化、纸浆与纺织品的漂白、下业废品、污水、游泳池的卫生处理;制备许多化学产品。
 
  7、氟气-F2,>98%,用于半导体器件制备工艺中等离子干刻;另外,用于制备六氟化铀、六氟化硫、三氟化硼和金属氟化物等。
 
  8、氨气-NH3,>99.995%,用作标准气、校正气、在线仪表标准气;用于半导体器件制备工艺中氮化工序;另外,用于制冷、化肥、石油、采矿、橡胶等工业。
 
  9、氯化氢-HCI,>99.995%,用作标准气;用于半导体器件制备工艺中外延、热氧化、扩散等工序;另外,用于橡胶氯氢化反应中的化学中间体、生产乙烯基和烷基氯化物时起氧氯化作用。
 
  10、一氧化氮-NO,>99%,用作标准气、校正气;用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积主序;制备监控大气污染的标准混合气。
 
  11、二氧化碳-CO2,>99.99%,用作标准气、在线仪表标推气、校正气;于半导体器件制备工艺中氧化、载流工序警另外,还用于特种混合气、发电、气体置换处理、杀菌气体稀释剂、灭火剂、食品冷冻、金属冷处理、饮料充气、烟雾喷射剂、食品贮存保护气等。
 
  12、氧化亚氮-N2O,(即笑气),>99.999%,用作标准气、医疗气;用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积、医月麻醉剂、烟雾喷射剂、真空和带压检漏;红外光谱分析仪等也用。
 
  13、硫化氢-H2S,>99.999%,用作标准气、校正气;用于半导体器件制备工艺中等离子干刻,化学工业中用于制备硫化物,如硫化钠,硫化有机物;用作溶剂;实验室定量分析用。
 
  14、四氯化碳-CCl4,>99.99%,用作标准气;用于半导体器件制备工艺中外延丫、化学气相淀积等工序;另外,用作溶剂、有机物的氯化剂、香料的浸出剂、纤维的脱脂剂、灭火剂、分析试剂、制备氯仿和药物等。
 
  15、氰化氢-HCN,>99.9,用于半导体器件制备工艺中等离子干刻工序;制备氢氰酸溶液,金属氰化物、氰氯化物;也用于制备丙烯睛和丙烯衍生物的合成中间体。
 
  特种气体,气体工业名词,是指那些在特定L域中应用的,对气体有特殊要求的纯气,高纯气或由高纯单质气体配制的二元或多元混合气。门类繁多,通常可区分为电子气体,标准气,环保气,医用气,焊接气,杀菌气等,广泛用于电子,电力,石油化工,采矿,钢铁,有色金属冶炼,热力工程,生化,环境监测,医学研究及诊断,食品保鲜等L域。特种气体用途及应用行业介绍如下。
 
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